岗位描述
岗位描述
负责半导体晶圆湿法工艺开发与优化,涵盖清洗、刻蚀、去胶等关键工序。
岗位职责
工艺开发:根据产品设计规格,制定晶圆生产的湿法工艺流程,确定关键工序和参数。评估工艺、确定工艺条件、制定计划,以满足PIE需求;
新产品导入:配合研发及工艺整合部门推进新产品的导入工作,对新产品的工艺流程进行设计、验证和优化;
工艺优化:根据生产及研发需求,工艺进行收集分析数据结果,提出工艺改进方案并实施落地;
异常问题处理:在线机台及产品的异常处理,日常监测并管控SPC chart及OCAP处理,及时制定优化和改善措施,保障产品在工艺过程中的质量安全。
任职要求
熟悉前后道清洗工艺、制程改善和去胶工艺工作原理;
熟悉相关工艺,如Wet Etch、Pre Clean、PR Strip、Lift off等,熟悉其中一项或多项工艺调试;
统招本科及以上学历,理工类专业,3年以上相关工作经验;
具备优秀的计划力、执行力、分析总结能力、持续改进能力和良好的团队合作精神。